国产DUV光刻机问世!
作者:纵横十
来源:种花城(ID:hqsycn)
9月9日,中国工信部发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,里面的氟化氪光刻机照明波长248nm、套刻精度⩽25nm,氟化氩光刻机光源193纳米,套刻≤8nm。
▲工信部网站截图
这里有3点值得注意:
其一,传统DUV光刻机,其光源为193纳米或248纳米,中国问世的这两型光刻机符合此条件,应该就是我们通常所说的DUV光刻机,只是官方没采用“DUV光刻机”这种说法。
其二,这两种光刻机已经开始“推广应用”,意味着它们不是实验室样品,而是成熟产品,并且是拥有自主知识产权的国产光刻机。
其三,氟化氩光刻机的套刻精度小于8nm,结合我们的多重曝光技术,有可能能做7nm、5nm芯片。
上述三点是作者的个人看法,如果理解的没有偏差,意味着中国DUV光刻机已正式问世,这将是具有里程碑意义的重大事件。
到这里,就不得说一些人真是惨遭打脸:
首先,是美国荷兰遭到光速打脸
美国一直在死卡中国芯片与光刻机,先是卡DUV与先进芯片、后是EUV与高端芯片,如今要求荷兰连售与中国的光刻机的售后都别做了,想用此手段让所有中国光刻机趴窝,让中国无法生产芯片。
结果荷兰在9月6日宣布,中国9月9日就宣布了自家DUV光刻机问世,并且看上述图片里的成文日期是在9月2日。很可能是我们早就知道了对方的动作,早就把文案写好了,就等着对方宣布后,我们立马官宣。
美国与荷兰ASML,成功给自己逼出了一个强大对手。
其次,是那帮恨国党也惨遭打脸
在前几年,总有一帮阴阳怪气的人在那里宣扬“光刻机是比原子弹还难的技术……”、“光刻机不是一个国家能够生产的,它集成了世界各国最顶尖技术”,诸如这样的论调相信各位读者都听到过,还有ASML曾说“即使把光刻机图纸公布出来,中国也造不出”。
如今,只想问问这帮人打脸不?脸烫不?
最后想说,中国DUV光刻机问世,意义重大。
首先,中国光刻机自主,意味着美国想卡中国芯片脖子已完全丧失可能。
现代工业与AI等未来科技都离不开芯片,美国一直想要通过卡住芯片来绝杀中国产业与中国未来工业,当中国自主光刻机问世,意味着美国的一切谋划成为泡影。
其次,中国未来一片光明
中国的芯片设计能力不差,华为就能够设计全球最顶尖芯片,差的只是最顶尖光刻机制造出来。
按照“熊猫第一定律”,凡是官宣的,都已经不是最好的。如今DUV成熟问世,意味着咱们的EUV也应该在研制中,相信不久后就会出来,这个没有官宣的就不多谈。
当中国能用国产光刻机做出28nm、14nm、7nm、5nm芯片时,意味着中国的工业将不再受限,未来前景完全是一片光明。前面就介绍过,中国国产芯片已能做出当前世界最强一代的E级超算;有日本机构拆解华为Pura 70手机,发现里面的麒麟芯片与台积电的5nm芯片相差无几;中国今年的芯片出口有望成世界第一。
还有,中国地租经济结束,接下来必须依靠数字经济,那便离不开芯片,此时产国光刻机问世,其意义有多大,也能明白。
唯一还不如国外的是3nm、2nm这类最顶尖芯片,但它们主要用途就2个:一是用于手机等消费电子,如今全球消费降级,用量不大;其二是用于AI这类的,然而如今AI并没有产生革命性突破,美国折腾了半天也就搞出ChatGPT那么个答案经常出错的辅助性工具,此类顶尖芯片在当前效能有限。
若是顶尖芯片能够产生AI质变,进而出现生产力的革命性提升,那将对美国极为有利,而不利于中国,可惜目前不是。时代似乎是在等中国,等中国也搞出EUV光刻机,也搞出2nm、1nm芯片后,同美国一起前进。
看到中国的DUV光刻机问世真是高兴,不但过去的阴霾一扫而空,还意味着中国未来一片光明,再无阻拦。
在此高兴之际,请允许作者吹下牛B。昔日美国开始对付中兴时,当所有人都没在意时,结合阿尔斯通的经历,作者第一时间预警了华为要小心,被成功说中;后来当美国开始对付华为、开通卡中国芯片时,作者又在第一时间预警真正要小心的不是芯片,而是芯片制造设备光刻机。
再后来大概到2018年,当美国开始全面封杀中国芯片与光刻机时,当很多国人都处于沮丧心情时,作者几乎是最乐观的那一派,说这不是坏事,恰恰是好事,美国不封锁,咱们的自主芯片很难崛起,光刻机可能很难出来,但美国这一封锁,中国的光刻机与芯片即将全面崛起。
当时如此判断的理由就2个,一是中国有庞大的芯片市场,背靠这个市场就能够形成半导体产业的正向循环;二,芯片光刻机事关中国未来,国家一定会全力去做,过去无数案例如原子弹、超算、空间站、航发什么的,无论什么事只要中国下定决心干,就一定能干出来。
如今光刻机也成了,心想事成的成!