事关EUV光刻机,华为公布新专利,外媒:难怪ASML坐不住了
EUV光刻机是当代半导体领域科技的明珠,更是限制中国半导体独立自主的根本原因之一,但是作为研发能力出众的民族企业华为来说,助力中国半导体产业崛起是无可厚非的责任。这不华为公布了全新的专利,涉及EUV光刻技术,就连ASML都坐不住了!

那么华为又实现了怎样的技术突破,将对全球半导体产业市场造成怎样的影响?未来中国有可能摆脱限制,实现半导体领域的独立自主吗?
一、光刻机技术突破的难点
光刻机为什么被称为芯片领域的技术明珠?因为制作难度非常高。虽然目前全球仅仅是ASML一家企业能够进行EUV光刻机的量产,但这背后其实是全球超过4000家厂商合作生产超过30000个零件的结果。这才导致光刻机每一台都是天价,动不动就需要上亿元才可以购买。

光刻机重要的技术难点可以被分为四个分类,分别是双工作台、光学系统、物镜系统和曝光系统,并称为光刻机的四大件,每一件的制作难度都要求非常高,因此想要实现光刻机的自主研发,不仅需要克服一两个技术难点,而是需要一系列的技术突破。
拿双工作台来说,需要在两台工作台上进行精密的芯片加工,其中不能有超过一丝一毫的偏差,工艺难度不亚于两台飞机在空中保持飞行同步,可想而知难度有多高。而剩下的光学系统、曝光系统等则需要定制特殊波长的极紫外线,以此实现光学镌刻,每一步都十分艰难。

那么华为在此实现了哪些技术突破,令ASML都感到了震惊呢?
二、华为实现技术突破
华为在芯片领域算是中国企业的佼佼者,曾经生产出的麒麟芯片更是在国际市场中广受好评,甚至因为影响到传统老牌芯片制造企业高通的利益,不被允许再生产。而在芯片制造上华为也有一套心得,不仅提出了芯片堆叠、光子芯片等新模式,更对于光刻机进行了相关研究。

华为更是宣布研发成功“反射镜、光刻装置及其控制办法”,对于光刻机的某些疑难问题有了自身的解法。该办法致力于光刻机的曝光系统这一步,因为普通的曝光系统为了过度追求光刻的效果,从而无法令干涉图样完整匀光,导致芯片良品率过低,而华为的该项技术将会解决这一难题。

更令人兴奋的是,华为的技术突破,仅是中国半导体产业三年来技术不断突破的缩影。像是不久前通富微电便实现了绕过光刻机5mn制程芯片的量产,南大光电更是解决了光刻胶被日本垄断的难题,清华也顺利攻破了EUV光刻机的光源壁垒。
这都令ASML感到了沉重的压力,甚至坦言:再给中国五年时间,那么光刻机的技术都将不再是秘密!那么面对中国光刻技术不断突破,ASML又将如何应对?未来的国际芯片半导体市场将朝着何种方向发展呢?

三、未来半导体市场的发展
未来的半导体光刻机市场,ASML必将失去一家独大的局面,群雄逐鹿才是未来的半导体市场发展主题。得益于台湾的干旱导致的芯缺潮,全球芯片价格疯涨,促进了各国进行半导体产业回流。我国被卡脖子的现实案例更是告诉所有人,只有本国具备核心技术,才能避免受制于人。
美国也在加强半导体产业本土化建设,拿出财政补助吸引台积电、三星等厂商赴美建厂,美光更是绕过EUV光刻机,实现了5nm制程芯片的量产,未来的ASML将会逐渐失去光刻机垄断地位,为了保障自身权益,ASML拒绝美国断供政策,频频向中国示好。

ASML表示要将在华员工从200名加到1500名,并且将提高产量,达到每年60台EUV光刻机和600台DUV光刻机产量,以此满足中国大陆市场的需求,未来中国和ASML或将成为盟友,共同发展。
结语
虽然被限制进行芯片制造,但是华为始终没有停止研发的步伐,更是在最近三年内频频实现技术突破,令ASML都感到了震惊。未来的全球半导体产业将朝着百家争鸣的方向发展,ASML未来或能成为合作关系,共同发展。
对于华为实现技术突破,大家有什么想说的?大家觉得未来的半导体市场将朝着怎样的方向发展?欢迎在评论区进行留言讨论。
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